TC-Wafer校準儀,一款專注晶圓溫場均勻性測量校準的輔助儀器。適配各類 RTP快速退火爐MOCVD、磁控濺射、刻蝕機、涂膠顯影機等需要關注熱均勻性測量的相關設備,特殊情況可按需定制。
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半導體制造工藝調校、RTP設備的測試驗證、TC-Wafer的測試驗證、相關晶圓熱處理設備的測試驗證,如CVD,PVD,Photo,等等 ……
測溫準確 溫度偏差在±1.1℃以內、采集周期為200ms,能準確測量晶圓溫場均勻性;
使用便捷 儀器集成度高,即插即用。測試記錄完整數據,并能自動生成測試報告,支持U盤、藍牙、無線網絡等多種方式導出數據和報告;
顯示直觀 最多支持20路實時測量(20路以上可定制),顯示實時點位圖及溫度分布圖,可在使用過程中實時觀察各點溫度變化;
功能強大 10000條歷史數據存儲量,能以圖表形式調閱歷史溫度和均勻性數據。可做同一臺設備不同時間段、以及不同設備同一配方的數據對比;
便攜易維護 便攜一體化設計,配備磁吸支架可貼靠于RTP表面, Type-C接口65W速充,可迅速更換TC-wafer。
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