產(chǎn)品介紹

快速退火爐系列產(chǎn)品，采用紅外輻射加熱及冷壁技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)實(shí)驗(yàn)材料的快速升溫和降溫，同時(shí)搭配超高精度的溫度控制系統(tǒng)，可達(dá)到極佳的溫場(chǎng)均勻性，對(duì)材料的快速熱處理、快速退火、快速熱氧化、快速熱氮化及金屬合金化等研究和生產(chǎn)工作起到重要作用。廣泛應(yīng)用于高校、科研院所、第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)、半導(dǎo)體制造企業(yè)等。

應(yīng)用功能

快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氧化(RTO)、快速熱氮化(RTN) ……

基片類型

硅片、碳化硅基片、化合物半導(dǎo)體基片、用于LED的GaN/藍(lán)寶石基片、用于太陽(yáng)能電池的多晶硅基片、石墨和鍍碳化硅的石墨基座、玻璃基片、金屬、聚合物等。

器件類型

光電芯片、射頻芯片、MEMS傳感器芯片、功率器件、CMOS芯片、模擬芯片、分立器件、光伏器件、顯示器件、存儲(chǔ)器芯片、光電子芯片、MEMS芯片的制造等。

應(yīng)用材料

電子材料、陶瓷與無(wú)機(jī)材料、金屬材料、復(fù)合材料 、功能薄膜材料……

定制化應(yīng)用(創(chuàng)新實(shí)驗(yàn))

原位光學(xué)觀察、相變測(cè)試、原位電學(xué)測(cè)試、測(cè)熱膨脹系數(shù)……

技術(shù)參數(shù)

創(chuàng)新實(shí)驗(yàn)部分應(yīng)用案例

相變、尺寸效應(yīng)等

聯(lián)用激光器檢測(cè)反射光功率隨溫度的變化來(lái)確定相變溫度。

熱膨脹系數(shù)測(cè)量

聯(lián)用激光器檢測(cè)薄膜材料上下表面光程差隨溫度的變化來(lái)測(cè)量熱膨脹系數(shù)。

電學(xué)測(cè)量

退火爐和源表聯(lián)用實(shí)現(xiàn)變溫條件下電學(xué)參數(shù)的測(cè)量。

光學(xué)原位測(cè)量

聯(lián)用光學(xué)儀器，通過(guò)退火爐上方觀察窗實(shí)現(xiàn)樣品變溫條件下的光學(xué)原位測(cè)量

論文發(fā)表

截止2024年5月，已有客戶包括華中科技大學(xué)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)等知名高校共計(jì)30余篇論文引用了RTP系列產(chǎn)品的測(cè)試結(jié)果。

快速退火爐部分合作客戶