離子注入工藝是把雜質離子加速后入射到材料中去，離子束與材料中的原子或分子將發生一系列物理的和化學的相互作用，入射離子逐漸損失能量，最后停留在材料中，并引起材料表面成分、結構和性能發生變化，從而優化材料表面性能，或獲得某些新的優異性能。

離子注入后將原子撞出晶格結構而造成晶格損傷，通過快速退火使原材料的原子和雜質原子在熱的作用下發生移動，并最終擴散到晶格點，形成電學，活性的離子摻雜。

嘉儀通快速退火爐系列，有著高溫場均勻性，采用紅外輻射加熱技術同時搭配高精度溫度控制系統，可實現樣品快速升溫和退火，對新材料相關的RTP研究工作起到重要作用。