離子注入工藝是把雜質(zhì)離子加速后入射到材料中去，離子束與材料中的原子或分子將發(fā)生一系列物理的和化學(xué)的相互作用，入射離子逐漸損失能量，最后停留在材料中，并引起材料表面成分、結(jié)構(gòu)和性能發(fā)生變化，從而優(yōu)化材料表面性能，或獲得某些新的優(yōu)異性能。

離子注入后將原子撞出晶格結(jié)構(gòu)而造成晶格損傷，通過快速退火使原材料的原子和雜質(zhì)原子在熱的作用下發(fā)生移動，并最終擴(kuò)散到晶格點，形成電學(xué)，活性的離子摻雜。

嘉儀通快速退火爐系列，有著高溫場均勻性，采用紅外輻射加熱技術(shù)同時搭配高精度溫度控制系統(tǒng)，可實現(xiàn)樣品快速升溫和退火，對新材料相關(guān)的RTP研究工作起到重要作用。