產品詳情
產品介紹
快速退火爐系列產品，采用紅外輻射加熱及冷壁技術，可實現對實驗材料的快速升溫和降溫，同時搭配超高精度的溫度控制系統，可達到極佳的溫場均勻性，對材料的快速熱處理、快速退火、快速熱氧化、快速熱氮化及金屬合金化等研究和生產工作起到重要作用。廣泛應用于高校、科研院所、第三方檢測機構、半導體制造企業等。
應用功能
快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氧化(RTO)、快速熱氮化(RTN) ……
| 薄膜沉積后退火 | 合金化退火 | 低介電材料熱處理 | 熱疲勞循環測試 |
| 離子注入退火 | 熱擴散、致密化 | 化合物半導體退火 | 合金熔點分析 |
| 電極接觸退火 | 結晶、燒結 | 多晶硅退火 | 耐熱性測試 |
| 去應力退火 | 氧化制程 | 多晶硅退火 | 材料制備 … … |
基片類型
硅片、碳化硅基片、化合物半導體基片、用于LED的GaN/藍寶石基片、用于太陽能電池的多晶硅基片、石墨和鍍碳化硅的石墨基座、玻璃基片、金屬、聚合物等。
器件類型
光電芯片、射頻芯片、MEMS傳感器芯片、功率器件、CMOS芯片、模擬芯片、分立器件、光伏器件、顯示器件、存儲器芯片、光電子芯片、MEMS芯片的制造等。
應用材料
電子材料、陶瓷與無機材料、金屬材料、復合材料 、功能薄膜材料……
定制化應用(創新實驗)
原位光學觀察、相變測試、原位電學測試、測熱膨脹系數……
技術參數
| 設備系列 | RTP-3-01 |
|---|---|
| 最大樣品尺寸(∮) | 20mm |
| 控溫范圍 | RT~1200℃ |
| 最快升溫速率 | 50℃/s |
| 最大降溫速率 | 380℃/min |
| 控溫精度 | ±0.1℃ |
| 溫度均勻性 | ≤1% |
| 氣路氣路 | 1-4路可選，轉子流量計或MFC控制，量程可定制 |
創新實驗部分應用案例
相變、尺寸效應等
聯用激光器檢測反射光功率隨溫度的變化來確定相變溫度。
熱膨脹系數測量
聯用激光器檢測薄膜材料上下表面光程差隨溫度的變化來測量熱膨脹系數。
電學測量
退火爐和源表聯用實現變溫條件下電學參數的測量。
光學原位測量
聯用光學儀器，通過退火爐上方觀察窗實現樣品變溫條件下的光學原位測量
論文發表
截止2024年5月，已有客戶包括華中科技大學、哈爾濱工業大學等知名高校共計30余篇論文引用了RTP系列產品的測試結果。
快速退火爐部分合作客戶
標簽: 快速退火爐
嘉儀通科技 | jouleyacht
武漢嘉儀通科技有限公司是專注功能材料物性分析儀器，技術自主創新的高新技術企業。
